发布时间：2023-11-16 来源：网络
染料;涂料;抛光剂;天然树脂;粘合剂;其他类目不包含的组合物;其他类目不包含的材料的应用
用组合物、研磨方法、以及陶瓷制部件的制造方法
用组合物、研磨方法、以及陶瓷制部件的制造方法
提供廉价且可对陶瓷进行高品质的镜面精加工的 研磨 用组合物。一种研磨用组合物，其含有由 碳 化物形成的磨粒，且用于研磨陶瓷。
1.一种用组合物，其用于研磨陶瓷，且含有由化物形成的磨粒。2.根据1所述的研磨用组合物，其中，所述磨粒的平均二次粒径为0.1μm以上且10.0μm以下。3.根据权利要求1或2所述的研磨用组合物，其中，所述碳化物为碳化及碳化硼中的至少一者。4.根据权利要求1～3中任一项所述的研磨用组合物，其还含有聚、聚磺酸、以及它们的盐中的至少1种。5.根据权利要求1～4中任一项所述的研磨用组合物，其还含有平均二次粒径为0.1μm以下且由除碳化物以外的物质形成的非碳化物颗粒。6.一种研磨方法，其使用权利要求1～5中任一项所述的研磨用组合物对研磨对象物进行研磨。7.一种陶瓷制部件的制造方法，其包括利用权利要求6所述的研磨方法对陶瓷制部件进行研磨。
[0001] 本发明涉及研磨用组合物、研磨方法、以及陶瓷制部件的制造方法。
[0002] 已知有如下技术：使用含有由金刚石构成的磨粒的研磨用组合物对陶瓷制部件的表面进行研磨并进行镜面精加工、平滑化(例如参照文献1、2)。然而，含有由金刚石构成的磨粒的研磨用组合物不仅昂贵，而且还存在容易产生划痕、难以获得高品质的镜面的
[0003]文献[0004] 专利文献[0005] 专利文献1：日本特开平7-179848号公报[0006] 专利文献2：日本特开号公报发明内容[0007] 发明要解决的问题[0008] 因此，本发明的课题在于解决上述那样的现有技术所具有的问题，提供廉价且可对陶瓷进行高品质的镜面精加工的研磨用组合物、研磨方法、以及陶瓷制部件的制造方法。
[0009] 用于解决问题的方案[0010] 为了解决前述问题，本发明的一个方案的研磨用组合物的主旨在于，用于研磨陶瓷，且含有由化物形成的磨粒。
[0011] 另外，本发明的另一方案的研磨方法的主旨在于，使用上述一个方案的研磨用组合物对研磨对象物进行研磨。
[0012] 进而，本发明的又一个方案的陶瓷制部件的制造方法的主旨在于，包括利用上述另一方案的研磨方法对陶瓷制部件进行研磨。
[0013] 发明的效果[0014] 本发明的研磨用组合物、研磨方法、以及陶瓷制部件的制造方法廉价且可对陶瓷进行高品质的镜面精加工。
具体实施方式[0015] 对本发明的一个实施方式进行详细说明。本实施方式的研磨用组合物用于研磨陶瓷，且含有由碳化物形成的磨粒。并且，该磨粒的平均二次粒径可以为0.1μm以上且10.0μm以下。另外，碳化物可以设为碳化及碳化硼中的至少一者。
[0016] 进而，本实施方式的研磨用组合物还可以含有聚、聚磺酸、以及它们的盐中的至少1种。进而，本实施方式的研磨用组合物还可以含有平均二次粒径为0.1μm以下且由除碳化物以外的物质形成的非碳化物颗粒。[0017] 这种本实施方式的研磨用组合物适用于陶瓷的研磨、不易产生划痕，因此，可以对陶瓷以高光泽进行高品质的镜面精加工。另外，本实施方式的研磨用组合物由于不含有由金刚石构成的磨粒，故廉价。进而，本实施方式的研磨用组合物与金属、树脂等材料相比硬度高，从而可以以充分高的研磨速度对研磨加工困难的陶瓷进行研磨。
[0018] 因此，通过使用本实施方式的研磨用组合物对陶瓷制的研磨对象物进行研磨，可以制造表面经镜面精加工的具有高质感(例如高级感)的陶瓷制部件。金属、树脂等材料在
提高表面的质感上存在限制，但是陶瓷可以通过镜面精加工赋予高的质感，因此可以制作
[0019] 以强度、耐久性、轻量性、外观性优异的陶瓷作为原材料，可以制造装饰品(例如配件、手表)、设备(例如手机终端、个人电脑)、照相机、运动/保健用品、齿科用品(例如假牙)、汽车内饰构件等各种物品的部件。这些当中，装饰品、电子设备、汽车内饰构件等中，对于表面设计的要求特别强，例如在高级商品中，由于强烈要求重视质感(例如高级感)的表面设计，故对于这种物品的陶瓷制部件的制造，本实施方式的研磨用组合物是适合的。
[0020] 也有对陶瓷制部件的表面实施、涂布、覆等而进行镜面精加工的方法，但在基于研磨的镜面精加工得到优异的镜面时，不需要涂料、涂布。另外，基于研磨的镜面与基于涂装、涂布、镀覆等的镜面相比耐久性高，因此镜面可以长期间维持。从这些观点出发，基于研磨的镜面精加工具有与基于涂装、涂布、镀覆等的镜面精加工相比更优异的特点。[0021] 需要说明的是，质感是指含陶瓷物质特有的原材料感，例如也可以表现为重量感、存在感。另外，陶瓷可以呈现出与金属、树脂不同的。进而，陶瓷的质感例如与金属物质、塑料物质不同，包含深度、暖度、独特的光泽感，这些可以对观看者、触摸者赋予例如陶磁器具有的美观、高级感。通过研磨而表面成为镜面的陶瓷具有光泽，因此，具有与金属、树脂不同的光泽性的质感，虽然具有光泽的表面例如与作为工艺品、美术品的陶磁器具有的表面不同，但有可能毫不逊色、或具有更优异的美观、高级感。进而，具有平滑性高的表面的陶瓷制部件的触感也优异，在耐冲击性等强度方面也是优异的。
[0022] 以下，对本实施方式的研磨用组合物进行详细说明。需要说明的是，以下说明的各种操作、物性的测定在没有特别说明的情况下，是在室温(20℃以上且25℃以下)、相对湿度40％以上且50％以下的条件下进行的。
[0023] 1.关于作为研磨对象物的陶瓷[0024] 对于可适用于基于本实施方式的研磨用组合物的研磨的陶瓷的种类没有特别的限制，可举出：将Mg、Ca、Sr、Ba、Sc、Y、La、Ti、Zr、Hf、V、Nb、Ta、Cr、Mo、W、Mn、Fe、Co、Ni、Cu、Ag、Au、Zn、Al、Ga、In、Sn、Pb、Bi、Ce、Pr、Nd、Er、Lu等金属元素的化物作为主要成分的陶瓷。这些陶瓷可以单独使用1种，也可以混合2种以上使用。
[0025] 这些当中，将Mg、Y、Ti、Zr、Cr、Mn、Fe、Zn、Al、Er的氧化物作为主要成分的陶瓷适合用作利用本实施方式的研磨用组合物进行研磨的陶瓷，氧化锆和氧化更适合。[0026] 进而，除金属氧化物系的陶瓷以外中，钛酸铝、氮化铝、氮化硅、碳化硅等可适用于基于本实施方式的研磨用组合物的研磨。[0027] 需要说明的是，本发明的陶瓷中不包含蓝宝石、碳化硅等单晶。[0028] 2.关于磨粒[0029] 对于构成磨粒的碳化物的种类没有特别的限制，例如可举出：碳化钛、碳化钨、碳化铝、碳化铬等金属碳化物、碳化硅、碳化硼、碳化氮等。这些碳化物中，碳化硅的研磨速度优异，容易获得。可以单独使用1种磨粒，也可以组合使用2种以上磨粒。另外，可以使用由2种以上碳化物的混合物形成的磨粒。[0030] 磨粒的平均二次粒径可以为0.1μm以上，优选为0.5μm以上。磨粒的平均二次粒径若为上述的范围内，则陶瓷的研磨速度提高。另一方面，磨粒的平均二次粒径可以为20μm以下，优选为10μm以下，更优选为5μm以下。磨粒的平均二次粒径若为上述的范围内，则容易通过研磨而得到低且表面粗糙度小的表面。[0031] 另外，存在大粒径的磨粒会残留在研磨后的陶瓷表面上的问题时，优选以使用了不含大粒径的小粒径(例如，平均二次粒径为5μm以下)的磨粒的研磨用组合物进行研磨。
[0032] 需要说明的是，磨粒的平均二次粒径可以通过法来测定。进而，具体而言，可以通过后述的实施例中记载的方法求得。[0033] 研磨用组合物中的磨粒的含量可以为1质量％以上，优选为2质量％以上。磨粒的含量若为上述的范围内，则基于研磨用组合物的陶瓷的研磨速度提高。另一方面，研磨用组合物中的磨粒的含量可以为50质量％以下，优选为45质量％以下。磨粒的含量若为上述的
范围内，则研磨用组合物的制造成本降低。另外，研磨后的陶瓷表面上残留的磨粒的量减
[0034] 3.关于、聚磺酸、以及它们的盐[0035] 本实施方式的研磨用组合物还可以含有聚羧酸、聚磺酸、以及它们的盐中的至少1种。聚羧酸、聚磺酸、以及它们的盐作为分散剂发挥作用，因此，在研磨用组合物中磨粒可容易地再分散。需要说明的是，本中，有时也将聚羧酸、聚磺酸、以及它们的盐记作“分散剂”。
[0036] 对于聚羧酸的种类没有特别的限制，例如可举出：聚、聚来酸、聚衣康酸。或者，也可以为这些聚羧酸中的2种以上的共聚物、聚羧酸与聚磺酸的共聚物、或这些共聚物的盐。这些当中，从有较多样的分子量的方面出发，优选聚丙烯酸或其盐。
[0037] 聚羧酸、聚磺酸、或它们的盐的分子量可以为500以上，优选为1000以上。随着聚羧酸、聚磺酸、或它们的盐的分子量的增大，研磨用组合物中的磨粒的再分散性变得更高。另外，从磨粒的再分散性和维持研磨速度的观点出发，通常分子量为10000以下是适当的。[0038] 聚羧酸、聚磺酸、或它们的盐的添加量可以为0.1g/L以上，优选为1g/L以上，更优选为5g/L以上。随着聚羧酸、聚磺酸、或它们的盐的添加量的增大，研磨用组合物中的磨粒的再分散性变得更高。另外，从研磨速度的维持和成本的观点出发，通常含量为200g/L以下是适当的，优选为100g/L以下。[0039] 4.关于非碳化物颗粒[0040] 本实施方式的研磨用组合物还可以含有平均二次粒径为0.1μm以下且由除碳化物以外的物质形成的非碳化物颗粒。该非碳化物颗粒作为分散剂发挥作用，因此，研磨用组合物中磨粒能容易地再分散。需要说明的是，本说明书中，非碳化物颗粒也记作“分散剂”。
[0041] 对于非碳化物颗粒的种类没有特别的限制，例如可举出：氧化铝、氧化锆、锆石、氧化铈、二氧化钛、、氧化铬、氧化、氮化硅、氮化钛、硼化钛、硼化钨、氧化锰等。这些非碳化物颗粒可以单独使用1种，也可以组合使用2种以上。另外，也可以使用由2种以上物质的混合物形成的非碳化物颗粒。[0042] 这些当中，从容易获得且低成本的方面出发，优选金属氧化物，更优选氧化铝(例如α-氧化铝、中间状氧化铝、气相氧化铝、氧化铝溶胶、它们的混合物)、水合氧化铝(例如勃姆石)、氢氧化铝、二氧化硅(例如胶体二氧化硅、气相二氧化硅、溶胶凝胶法二氧化硅)。
[0043] 非碳化物颗粒的平均二次粒径从获得容易性的观点出发，优选为0.005μm以上，更优选为0.01μm以上。另外，非碳化物颗粒的平均二次粒径优选为0.5μm以下，更优选为0.2μm以下，进一步优选为0.1μm以下。非碳化物颗粒的平均二次粒径若为上述的范围内，则不仅成本降低，而且磨粒本身的沉淀不易发生，研磨用组合物的磨粒的再分散性进一步提高。需要说明的是，非碳化物颗粒的平均二次粒径例如可以通过动态光散射法来测定。作为基于动态光散射法的测定装置的例子，可举出：NIKKISO CO.,LTD.制的UPA-UT151。
[0044] 5.关于添加剂[0045] 为了提高其性能，本实施方式的研磨用组合物中可以根据需要添加pH调节剂、蚀刻剂、氧化剂(可以为共聚物。另外，也可以为它们的盐、衍生物)、防蚀剂、螯合剂、分散助剂、防腐剂、防霉剂等各种添加剂。
[0046] 5-1关于pH调节剂[0047] 本实施方式的研磨用组合物的pH的值可以通过添加pH调节剂来调节。为了将研磨用组合物的pH值调节至期望的值，根据需要使用的pH调节剂可以为酸及碱中的任意者，另
外，也可以为它们的盐。对于pH调节剂的添加量没有特别的限制，只要是以研磨用组合物成为期望的pH的方式适宜调节即可。
[0048] 对于作为pH调节剂的酸的具体例，可举出：无机酸、羧酸、有机硫酸有机酸。作为无机酸的具体例，可举出：盐酸、硫酸、硝酸氢氟酸、硼酸、碳酸、次磷酸、磷酸等。另外，作为羧酸的具体例，可举出：甲酸、乙酸、丙酸、丁酸、戊酸、2-甲基丁酸、正己酸、3,3-二甲基丁酸、2-乙基丁酸、4-甲基戊酸、正庚酸、2-甲基己酸、正辛酸、2-乙基己酸、乙醇酸、水杨酸、甘油酸、草酸丙二酸琥珀酸戊二酸己二酸、庚二酸、马来酸、邻苯二甲酸、苹果酸、酒石酸柠檬酸、乳酸、二甘醇酸、2-呋喃羧酸、2,5-呋喃二羧酸、3-呋喃羧酸、2-四氢呋喃羧酸、甲氧基乙酸、甲氧基苯基乙酸、苯氧基乙酸等。进而，作为有机硫酸的具体例，可举出：甲磺酸、乙磺酸、羟乙基磺酸等。这些酸可以单独使用1种，也可以组合2种以上使用。[0049] 这些当中，从研磨速度提高的观点出发，对于无机酸，优选硫酸、硝酸、盐酸、磷酸等，对于有机酸，优选乙醇酸、琥珀酸、马来酸、柠檬酸、酒石酸、苹果酸、酸、衣康酸等。[0050] 另外，对于作为pH调节剂的碱的具体例，可举出：脂肪族胺、芳香族胺等胺、氢氧化季铵化合物等有机碱、氢氧化等碱金属的氢氧化物、碱土金属的氢氧化物、以及氨等。这些当中，从获得容易性出发，优选氢氧化钾、氨。这些碱可以单独使用1种，也可以组合2种以上使用。[0051] 作为碱金属的具体例，可举出：钾、钠等。另外，作为碱土金属的具体例，可举出：钙、锶等。进而，作为盐的具体例，可举出：碳酸盐、碳酸氢盐、、乙酸盐等。进而，作为季铵的具体例，可举出：四甲基铵、四乙基铵、四丁基铵等。
[0052] 作为氢氧化季铵化合物，包含氢氧化季铵或其盐，作为具体例，可举出：四甲基氢氧化铵、四乙基氢氧化铵、四丁基氢氧化铵等。[0053] 进而，作为胺的具体例，可举出：甲胺、二甲胺、三甲胺、乙胺、二乙胺、三乙胺、乙二胺、单乙醇胺、N-(β-氨基乙基)乙醇胺、六亚甲基二胺、二亚乙基三胺、三亚乙基四胺、无水哌嗪、哌嗪六水合物、1-(2-氨基乙基)哌嗪、N-甲基哌嗪、胍等。[0054] 另外，代替上述酸、或与上述酸组合，也可以使用酸的铵盐、碱金属盐等盐作为pH调节剂。特别是使用弱酸与强碱的盐、强酸与弱碱的盐、或弱酸与弱碱的盐时，可以期待pH的缓冲作用，进而，在使用强酸与强碱的盐时，通过少量添加，不仅可以调节pH，而且可以调节电导率。[0055] 5-2关于蚀刻剂[0056] 本实施方式的研磨用组合物中，为了促进陶瓷的溶解，也可以添加蚀刻剂。作为蚀刻剂的例子，可举出：硝酸、硫酸、盐酸、磷酸、氢氟酸等无机酸、乙酸、柠檬酸、酒石酸、甲磺酸等有机酸、氢氧化钾、氢氧化钠等无机碱、氨、胺、季铵氢氧化物等有机碱等。这些蚀刻剂可以单独使用1种，也可以组合2种以上使用。[0057] 5-3关于氧化剂[0058] 本实施方式的研磨用组合物中，为了使陶瓷的表面氧化，也可以添加氧化剂。作为氧化剂的具体例，可举出：过氧化氢、过乙酸、过碳酸盐、过氧化脲、高氯酸盐、过硫酸盐、硝酸等。作为过硫酸盐的具体例，可举出：过硫酸钠、过、过硫酸铵等。这些氧化剂可以单独使用1种，也可以组合2种以上使用。[0059] 5-4关于水溶性聚合物[0060] 本实施方式的研磨用组合物中，可以添加作用于陶瓷的表面、磨粒的表面的水溶性聚合物(可以为共聚物。另外，也可以为它们的盐、衍生物。)。作为水溶性聚合物、水溶性共聚物、它们的盐或衍生物的具体例，可举出：聚丙烯酸盐等聚羧酸、聚膦酸、聚苯乙烯磺酸等聚磺酸、黄原胶、藻酸钠等多糖类、羟乙基素、羟甲基等纤维素衍生物、聚乙二醇、聚乙烯醇、聚乙烯吡咯烷酮、脱水山梨醇单油酸酯、具有单一种或多种的氧化烯单元的氧化烯系聚合物等。这些可以单独使用1种，也可以组合2种以上使用。
[0061] 5-5关于防蚀剂[0062] 本实施方式的研磨用组合物中，为了抑制陶瓷表面的腐蚀，也可以添加防蚀剂。作为防蚀剂的具体例，可举出：胺类、吡啶类、四苯基鏻盐、苯并类、类、四唑类、苯甲酸等。这些防蚀剂可以单独使用1种，也可以组合2种以上使用。[0063] 5-6关于螯合剂[0064] 本实施方式的研磨用组合物中，可以添加螯合剂。作为螯合剂的具体例，可举出：葡萄糖酸等羧酸系螯合剂、乙二胺、二亚乙基三胺、三甲基四胺等胺系螯合剂、乙二胺四乙酸、次氮基三乙酸、羟基乙基乙二胺三乙酸、三亚乙基四胺六乙酸、二亚乙基三胺五乙酸等多氨基聚羧酸系螯合剂、2-氨基乙基膦酸、1-羟基乙叉基-1,1-二膦酸、氨基三(亚甲基膦
酸)、乙二胺四(亚甲基膦酸)、二亚乙基三胺五(亚甲基膦酸)、乙烷-1,1-二膦酸、乙烷-1,1,
2-三膦酸、甲烷羟基膦酸、1-膦酸-2,3,4-三羧酸等有机膦酸系螯合剂、苯酚衍生物、1,
[0065] 5-7关于分散助剂[0066] 本实施方式的研磨用组合物中，为了使磨粒的聚集物的再分散容易，也可以添加分散助剂。作为分散助剂的具体例，可举出：焦磷酸盐、六偏磷酸盐等缩合磷酸盐等。这些分散助剂可以单独使用1种，也可以组合2种以上使用。
[0067] 5-8关于防腐剂[0068] 本实施方式的研磨用组合物中，可以添加防腐剂。作为防腐剂的具体例，可举出：次氯酸钠等。防腐剂可以单独使用1种，也可以组合2种以上使用。
[0069] 5-9关于防霉剂[0070] 本实施方式的研磨用组合物中可以添加防霉剂。作为防霉剂的具体例，可举出：噁唑烷-2,5-二酮等噁唑啉等。[0071] 6.关于液体介质[0072] 本实施方式的研磨用组合物可以含有由碳化物形成的磨粒、和水、等液体介质。此时，根据期望可以添加聚羧酸、非碳化物颗粒、添加剂。
[0073] 液体介质作为用于将研磨用组合物的各成分(磨粒、聚羧酸、非碳化物颗粒、添加剂等)分散或溶解的分散介质或溶剂而发挥作用。作为液体介质，可举出水、有机溶剂，可以单独使用1种，也可以混合2种以上使用，优选含有水。其中，从抑制阻碍各成分的作用的观点出发，优选使用尽量不含有杂质的水。具体而言，优选以离子交换树脂去除杂质离子后，通过去除了异物的纯水、超纯水、或蒸馏水。
[0074] 7.关于研磨用组合物的制造方法[0075] 对于本实施方式的研磨用组合物的制造方法没有特别的限制，可以通过将磨粒与根据期望的聚羧酸、非碳化物颗粒、各种添加剂在水等液体介质中搅拌、混合来制造。例如，可以通过将由碳化物形成的磨粒与聚羧酸(可以为聚磺酸、或者也可以为它们的盐)、平均
二次粒径为0.1μm以下的非碳化物颗粒、各种添加剂在水中搅拌、混合来制造。对于混合时的没有特别的限制，优选为10℃以上且40℃以下，为了提高溶解速度，也可以进行加
[0076] 8.关于研磨方法以及陶瓷制部件的制造方法[0077] 使用本实施方式的研磨用组合物的陶瓷的研磨可以通过在通常的研磨中使用的研磨装置、研磨条件进行。例如可以使用单面研磨装置、双面研磨装置。
[0078] 例如，将作为研磨对象物的陶瓷制部件作为陶瓷制的基板、使用单面研磨装置进行研磨时，用被称为承载器(carrier)的保持具保持基板，将贴附有研磨布的平板按压在基板的单面，边供给研磨用组合物边使平板旋转，由此对基板的单面进行研磨。
[0079] 另外，使用双面研磨装置对陶瓷制的基板进行研磨时，用被称为承载器的保持具保持基板，将贴附有研磨布的平板分别自基板的两侧按压在基板的双面，边供给研磨用组
[0080] 使用任一研磨装置时，均通过基于摩擦(研磨布及研磨用组合物与陶瓷的摩擦)的物理作用与研磨用组合物给陶瓷带来的化学作用来研磨基板。
[0081] 在使用含有由金刚石构成的磨粒的研磨用组合物对陶瓷制部件进行研磨的以往的研磨方法中，使用由将锡、锡、或这些金属与树脂混合并烧结而得到物质形成的平板进行研磨，但在使用本实施方式的研磨用组合物对陶瓷制部件进行研磨的研磨方
法中，可以使用贴附有研磨布的平板进行研磨，因此，与上述以往的研磨方法相比，更容易得到优异的镜面。
[0082] 作为研磨布，可以使用聚氨酯、无纺布、绒面革等各种原材料的物质。另外，除原材料不同以外，可以使用硬度、厚度等物性各种不同的物质。进而，包含磨粒的物质、不包含磨粒的物质均可以使用，但优选使用不包含磨粒的物质。[0083] 进而，对于研磨条件中的研磨载荷(负荷于研磨对象物的压力)没有特别的限制，可以为4.9kPa(50gf/cm2)以上且98kPa(1000gf/cm2)以下，优选为7.8kPa(80gf/cm2)以上且
78kPa(800gf/cm2)以下，更优选为9.8kPa(100gf/cm2)以上且59kPa(600gf/cm2)以下。研磨载荷若在该范围内，则可以发挥充分的研磨速度，可以抑制由载荷导致的研磨对象物破损、或者在研磨对象物的表面产生损伤等缺陷。
[0084] 另外，对于研磨条件中的研磨速度(线速度)没有特别的限制，可以为10m/分钟以上且300m/分钟以下，优选为30m/分钟以上且200m/分钟以下。研磨速度(线速度)若在该范
围内，则可以得到充分的研磨速度。另外，可以抑制由研磨对象物的摩擦导致的研磨布的破损，进而，摩擦可以充分地传递至研磨对象物，可以抑制所谓的研磨对象物滑动的状态，可以充分地进行研磨。
[0085] 进而，针对研磨条件中的研磨用组合物的供给量，根据研磨对象物的种类、研磨装置的种类、研磨条件而不同，研磨用组合物只要是足以对研磨对象物与研磨布之间均匀且全面地供给的量即可。研磨用组合物的供给量少的情况下，有时研磨用组合物不会供给到
整个研磨对象物、研磨用组合物干燥并在研磨对象物的表面产生缺陷。相反，在研磨用组合物的供给量多的情况下，不仅不经济，而且有由于过剩的研磨用组合物(特别是水等液体介质)，会妨碍摩擦从而阻碍研磨的担心。
[0086] 需要说明的是，在使用本实施方式的研磨用组合物进行研磨的正式研磨工序之前，也可以设置使用其它研磨用组合物进行研磨的预研磨工序。在研磨对象物的表面有加
工损伤、输送时赋予的损伤等的情况下，为了将这些损伤在一个研磨工序中进行镜面化，需要较多的时间，故不经济，从而有损害研磨对象物的表面的平滑性的担心。
[0087] 因此，通过利用预研磨工序去除研磨对象物的表面的损伤，可以缩短使用本实施方式的研磨用组合物的正式研磨工序所需要的研磨时间，可以有效地得到优异的镜面。作
为预研磨工序中使用的预研磨用组合物，优选使用与本实施方式的研磨用组合物相比研磨
力更强的物质。具体而言，优选使用与本实施方式的研磨用组合物中使用的磨粒相比硬度
高且平均二次粒径大的磨粒。需要说明的是，预研磨用组合物中含有的磨粒的平均二次粒
径例如可以通过电阻法来测定。作为基于该电阻法的装置的例子，可举出：Beckman
[0088] 另外，在使用本实施方式的研磨用组合物进行研磨的正式研磨工序之后，还可以设置使用其他研磨用组合物进行研磨的精加工研磨工序。通过精加工研磨，可以得到更优
异的镜面。作为精加工研磨工序中使用的精加工研磨用组合物，优选使用与本实施方式的
研磨用组合物相比研磨力更低的物质。具体而言，优选使用与本实施方式的研磨用组合物
中使用的磨粒相比硬度低且平均二次粒径小的磨粒。需要说明的是，精加工研磨用组合物
中含有的磨粒的平均二次粒径例如可以通过动态光散射法来测定。作为基于动态光散射法
[0089] 另外，本实施方式的研磨用组合物可在用于研磨对象物的研磨后回收，再次用于研磨对象物的研磨。作为再次利用研磨用组合物的方法的一例，可举出：将自研磨装置排出的研磨用组合物回收至容器中，使其再次向研磨装置内循环而用于研磨的方法。如果循环
使用研磨用组合物，则可以减少作为废液排出的研磨用组合物的量，从而能够减轻环境负
担。另外，可以减轻使用的研磨用组合物的量，从而可以抑制研磨对象物的研磨所需的制造成本。
[0090] 再次利用本实施方式的研磨用组合物时，添加因用于研磨而消耗、损失的磨粒、添加剂等的一部分或全部作为组成调节剂后进行再次利用为宜。作为组成调节剂，可以以任意混合比率混合磨粒、添加剂等。通过追加添加组成调节剂，可以将研磨用组合物调整为适于再次利用的组成，进行适当的研磨。组成调节剂中含有的磨粒及其他添加剂的浓度是任
[0091] 进而，本实施方式的研磨用组合物可以为单组分型，也可以为以任意比率将研磨用组合物的成分的一部分或全部混合而得到的双组分型等多组分型。另外，研磨对象物的
研磨中，可以直接使用本实施方式的研磨用组合物的原液进行研磨，也可以使用将原液用
[0092] 〔实施例〕[0093] 以下示出实施例，参照表1对本发明进一步进行具体说明。[0094] 将由碳化硅或碳化硼形成的磨粒与作为液体介质的水混合，使磨粒分散于水中，制造实施例1～6的研磨用组合物。另外，将由碳化硅形成的磨粒与作为液体介质的水、作为添加剂的分散剂混合，使磨粒分散于水中，制造实施例7、8的研磨用组合物。进而，将表1中示出的各种磨粒与作为液体介质的水混合，使磨粒分散于水中，制造比较例1～3的研磨用
[0095] 在实施例1～8及比较例1～3中的任一者中，研磨用组合物整体中的磨粒的含量均为21质量％。另外，实施例1～8及比较例1～3的研磨用组合物的磨粒的平均二次粒径如表1所示。需要说明的是，磨粒的平均二次粒径使用Beckman Coulter,Inc.制的MultisizerIII装置来测定。进而，实施例7的研磨用组合物中添加的分散剂为聚丙烯酸钠，研磨用组合物中的浓度为50g/L。进而，实施例8的研磨用组合物中添加的分散剂为含有平均一次粒径
[0096] 使用实施例1～8及比较例1～3的研磨用组合物，在下述的研磨条件下，进行白色氧化锆陶瓷制的矩形片状构件(尺寸为纵60mm、横80mm)的研磨。然后，测定研磨前的矩形片状构件的质量和研磨后的矩形片状构件的质量，由研磨前后的质量差算出研磨速度。将结
[0097] [表1][0098][0099] (研磨条件)[0100] 研磨装置：单面研磨装置(平板的直径：380mm)[0101] 研磨布：聚氨酯制研磨布[0102] 研磨载荷：17.6kPa(180gf/cm2)[0103] 平板的转速：90min-1[0104] 研磨速度(线] 研磨用组合物的供给速度：26mL/分钟[0107] 另外，通过下述的方法，评价实施例1～8及比较例1～3的研磨用组合物的再分散性。将研磨用组合物放入到容量100mL的塑料瓶(Poly Bottle)中，将塑料瓶的底部朝向下方并以直立的姿势静止24小时，然后将塑料瓶反转而使其倒立。保持倒立的姿势30秒后，观察附着于塑料瓶的内部的底面的磨粒，通过目视算出磨粒的附着部分的面积相对于底面的面积的比率。将结果示于表1。
[0108] 由表1可知，实施例1～8的研磨速度与比较例1～3相比为充分高的值，特别是磨粒的平均二次粒径为0.1μm以上且10.0μm以下的范围内的实施例3～8的研磨速度为高值。另外，在任一实施例中，白色氧化锆陶瓷制的矩形片状构件的表面均为划痕少的高品质的镜
[0109] 进而，可知：由于磨粒的附着部分的面积相对于塑料瓶的内部的底面的面积小，因此，添加有分散剂的实施例7、8的研磨用组合物与未添加分散剂的实施例1～6及比较例1～3的研磨用组合物相比磨粒的再分散性优异。半岛体彩
